DTB結晶器專為混合懸浮產(chǎn)品出料設計，適用于真空冷卻結晶，蒸發(fā)速率穩(wěn)定。這是一種晶漿內循環(huán)結晶器，其典型特點是模具內設有攪拌器、導筒和擋板，并配有配套的熱交換裝置和細粒消除裝置。這種設計用于不需要加熱（或少量加熱）的場合，可設計成結構緊湊、投資少的設備。

　　晶漿通過內置的攪拌器從內導筒底部上升，與液面過飽和度大的區(qū)域接觸，消耗過飽和度。它也沿著內導筒和外導筒之間的環(huán)形局部區(qū)域下降。在結晶器筒體與外導筒之間的環(huán)形間隙處，晶漿與澄清液分離，晶漿繼續(xù)向下循環(huán)。清液從外環(huán)形間隙進入細晶消除裝置，溶解多余的細晶核，保證晶核不會過多，使晶體的粒度分布更加均勻。

 

　　在DTB結晶器蒸發(fā)結晶過程中，過飽和的產(chǎn)生速率取決于蒸發(fā)速率，即設備的蒸發(fā)強度。蒸發(fā)強度越大，過飽和的產(chǎn)生越快，越容易形成過高的過飽和。自發(fā)成核的消除主要取決于晶體生長的過程。如果結晶器中有足夠的晶面和較快的生長速度，蒸發(fā)產(chǎn)生的過飽和度可以全部在晶面上生長，溶液的過飽和度不會使溶質通過成核過程消除過飽和度，因為它使溶液過飽和，以免產(chǎn)生大量晶核。

　　如果溶液中的晶面不足，晶體生長不足以消除蒸發(fā)引起的過飽和，則溶液的過飽和度過高，處于不穩(wěn)定區(qū)。溶液的過飽和度會消耗自發(fā)成核過程中的過飽和度，從而形成大量細小顆粒。因此，需要控制蒸發(fā)結晶過程中的蒸發(fā)強度，使結晶系統(tǒng)的過飽和度始終在結晶亞穩(wěn)區(qū)內，以保證所設計的蒸發(fā)結晶設備能夠生產(chǎn)出符合要求的產(chǎn)品。

　　晶體在生長區(qū)的停留時間越長，晶體生長時間越長，晶體粒徑越大。大尺寸晶體的形成需要足夠的生長時間。基于準確的結晶動力學數(shù)據(jù)，我們將根據(jù)設計任務中所需的晶體生長速率和粒徑設計合適的DTB結晶器。